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スクリーンマスク技術紹介

RMS(レジンモールドスクリーン)版

超薄膜印刷・高パターン再現性印刷・細線とベタの両立・ベタのグラデーションなど、従来のスクリーン印刷では出来なかったことを実現

・断面イメージ図

RMS(レジンモールドスクリーン)版のイメージイラストと写真

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レジンモールドスクリーン版の特徴

・通常のスクリーン版

通常のスクリーン版のイメージ画像

MS640-15-C17 開口率38.7%

通常のスクリーン版の構造を表すイメージ画像
レジンモールドスクリーン版のイメージ画像

RMS版(#640-開口23.4μm 開口率34.8%)

レジンモールドスクリーン版の構造を表すイメージ画像

ペースト塗布厚比較

印刷物4枚目のペースト塗布厚を通常のMS73-13-C15メッシュ(乳剤厚1.6μm)版と
RMS版(#651メッシュ-線径14μm相当 乳剤厚2.4μm)でシート上3箇所を比較計測

通常版とRMS版の比較画像

RMS版の方が通常MS730-13-C15版よりもペースト塗布厚は
薄くなっている(印刷条件、ペースト条件は同一)
また塗布形状はRMS版の方が矩形形状に近くなっている

通常版とRMS版の比較表
通常版とRMS版の比較画像
通常版とRMS版の比較表

RMS版の方が通常MS730-13-C15版よりもペースト塗布厚は
薄くなっている(印刷条件、ペースト条件は同一)
また塗布形状はRMS版の方が矩形形状に近くなっている

RMS版の印刷時のイメージ画像
通常版の印刷時のイメージ画像
RMS版の印刷時のイメージ画像
通常版の印刷時のイメージ画像

にじみの抑制

通常のMS730-13-C15メッシュ(乳剤厚1.6µm) 版とRMS版 (#651 メッシュ・線径14µm相当乳剤厚2.4µm)での




印刷4枚目同士の画像比較
通常版で印刷した物よりもRMS版で印刷した物の方がニジミは少なく、やや細く印刷されている

通常版印刷4枚目とRMS版印刷4枚目の比較画像

※塗布量の抑制、パターン乳剤部の平価いつ性向上により、にじみ低減

印刷機メーカー、ペーストメーカーとの共同開発

各社テーマを共有し、課題に取り組むことでテーマの実現とスピードUPを狙う

メッシュでは、スクリーン印刷の可能性を広げることを目的に、印刷機メーカー・ペーストメーカー各社の強みを集結させ、それらを用いた印刷を行い、「高アスペクト化」、「細線化」、「薄膜などの膜厚均一化」、「位置精度向上」などスクリーン印刷で実現することを目標に活動しています。

スクリーンマスクの写真1
スクリーンマスクの写真2

高アスペクト印刷 30μmなど

『ライン幅約30μm』 
アスペクト比1:1

スクリーンマスクの写真3
スクリーンマスクの写真4
スクリーンマスクの写真2
スクリーンマスクの写真5

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ファインライン

通常のスクリーン印刷

クリアランスをとり、版のテンションを利用し版離れを行う

クリアランスをとり、版のテンションを利用し版離れを行う際のイメージ画像
ライン幅が細くなるにつれて膜厚は現象

離着機構を用いた印刷

印刷機の離着機構を利用し版離れを行う

印刷機の離着機構を利用し版離れを行うことを表している様子の写真

※印刷位置精度向上

高アスペクト印刷を実現(製版ライン幅:乳剤厚 1:1)
高アスペクト印刷を実現(製版ライン幅:乳剤厚 1:1)

高アスペクト印刷を実現
(製版ライン幅:乳剤厚 1:1)

High Aspect Ratio ScreenMask

インダクタ内部電極などの




高アスペクト比印刷を実現します。

◆乳剤厚20μm 線幅20μmなどのパターニングが可能

◆乳剤壁のスムース化でペーストの抜け性を改善

線幅30μm、乳剤厚30μm(総厚51μm)のスクリーンマスクでの印刷例
ペースト塗布厚≒30μm

L/S=15/18(μm)
乳剤厚 15μm
ペースト塗布厚≒15μm

W線幅 30μm
乳剤厚 30μm
ペースト塗布厚≒30μm

紗の交点の部分でも、




ペースト塗布厚の凹凸は




ほとんど見られない

高アスペクトレシオ版による
0402サイズインダクタパターンの印刷例

紗厚:21μm 乳剤:H-100 乳剤厚:30μm 線幅:30μm

高アスペクトレシオ版の写真
3D測定グラフの画像
緑線ので計測した場合のグラフ画像
ピンク線で計測した場合のグラフ画像
水色線で計測した場合のグラフ画像

高アスペクト印刷 200μmなど

『ライン幅約200μm』 
アスペクト比1:1

スクリーンマスクの製品と解析図の画像

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High Aspect Ratio Thick Resist




ScreenMask

パワーインダクタ内部電極などの高アスペクト比・




高塗布厚印刷を実現します。

◆総厚200μmで線幅200μm以下のパターニングが可能

◆一回印刷で塗布厚200μmの実現も可能

スクリーンマスクの製品画像

乳剤厚150μm (総厚205μm) 線幅200μm

高アスペクト比厚膜版による線幅200μmパワーインダクタパターンの印刷例

紗厚:55μm 乳剤:H-100 乳剤厚:150μm 線幅:200μm

設計線幅200μmのパワーインダクタ内部電極をアスペクト比1:1超で印刷
(Agペーストを使用 印刷形状・厚みはペーストによって異なります) 

線幅約180μm 塗布厚約190μm

直径1mmの円マークも塗布厚200μmで印刷
他形状の厚膜印刷でも可能性あり

印刷工法違いによる印刷外観形状

離着機構を用いた印刷

離着機構を用いた印刷の表面画像
離着機構を用いた印刷の3Dグラフと表面画像

従来のクリアランス印刷

従来のクリアランス印刷の表面画像
従来のクリアランス印刷の3Dグラフと表面画像

※使用するペースト・基板、印刷条件などにより結果は異なります

①超厚膜印刷(平滑、矩形)

『約1000μm』 積層印刷

『約1000μm』の積層印刷がされている写真

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ベタパターン

通常のスクリーン印刷

クリアランスをとり、版のテンションを利用し版離れを行う

クリアランスをとり、版のテンションを利用し版離れを行う際のイメージ画像
メッシュ跡が残り、平滑性が悪い

離着機構を用いた印刷

印刷機の離着機構を利用し版離れを行う

印刷機の離着機構を利用し版離れを行う際のイメージ画像

※印刷位置精度向上

メッシュ跡がほとんどなく、平滑性が良い
メッシュ跡がほとんどなく、平滑性が良い

メッシュ跡がほとんど無く、平滑性が良い

銅ペースト超厚膜積層印刷例①

(製版:メッシュ㈱ 印刷:ニューロング精密工業㈱)

・印刷サンプル拡大写真

パワー系パターン(細線部線幅:Min500μm)

サーミスタパターン(1セル:2000×4000μm)

数回の積層印刷で、膜厚約1000μm以上の超厚膜印刷技術を実現。

銅ペースト超厚膜積層印刷例②

(製版:メッシュ㈱ 印刷:ニューロング精密工業㈱)

・印刷サンプル拡大写真

銅ペースト超厚膜積層印刷がされた製品の写真1
銅ペースト超厚膜積層印刷がされた製品の写真2
銅ペースト超厚膜積層印刷がされた製品の3Dグラフ画像
銅ペースト超厚膜積層印刷がされた製品のグラフ画像

十数回の積層印刷で、膜厚(乾燥後)約2000μm以上の超厚膜印刷技術を開発中。

ワイドパターン サドル抑制

『乳剤厚 0μmフラット』 

乳剤厚 0μmフラットの製品画像

詳細を見る

0μmフラット

乳剤厚0μm設計によりワイドパターンのサドル現象を




抑制します

◆乳剤厚0μmであるにもかかわらずフラットな版膜表面を実現した製版

◆シャープなエッヂかつフラットな版膜が、ニジミも抑制

乳剤厚 0μmフラットの製品画像

メッシュ:ST165-45-95 乳剤厚0μmフラット

サドル現象を抑制していることを表しているイメージ画像

0μmフラット版と乳剤厚18μm製版での印刷によるサドル現象 大きさの差異

0μmフラット版によるサドル現象の計測結果画像
乳剤厚18μm製版によるサドル現象の計測結果画像

ST165-45-95メッシュを用い
乳剤厚 0μmフラット製版と
乳剤厚18μm製版での印刷結果を比較

乳剤厚平均膜厚サドル高
0μm32.0μm8.0μm
18μm32.0μm16.0μm
0μmフラット版の拡大画像

滲み抑制、版離れ改善

『FPコート』 強固な超撥液膜

FP COATのイラスト

詳細を見る

FPコート
-Fine Printing Cote Mask-

撥水・撥油性に優れたFP COTEにより課題解決を




実現します

◆ペースト・インキの抜け性向上

◆版離れ性の向上

◆版のメンテナンス性向上

◆基材に強固に密着する高い耐久性

※粒界を持たない独自の硬質・超薄膜成膜工法で材料に強く密着

FP COATのイラスト
膜厚約100nm
表面硬度約500Hv
接触角※水:約110°
油:約60°
環境規制物質非含有(検出下限以下)

※接触角は基材表面粗さに依存します

撥液性比較

・通常版

・FPコート版

◆ニジミの抑制

◆版離れ性向上により印刷タクトアップ

孔壁に残る・P面に回り込むよりにじみが出ることを表すイラスト(上)と孔壁残り抑制・P面回り込み抑制ことによりにじみが抑制されていることを表す画像(下)
通常版(左)とFPコート版(右)の印刷時と印刷後の製品画像

◆基材に強固に密着する高い耐久性

FP COATEと他社製品との比較画像

フォトマスク技術紹介

大型ソーダガラスで“線幅1μm以下”をパターンニング可能

『線幅1μmパターンニング技術(ソーダライムガラス)』

大型ソーダガラス(800㎜×1092㎜)全面に微細な描画パターンの安定した解像が可能に
これまでは2μmまでが限界でしたが、技術向上により1μmまでの解像が可能となりました。

800mm×1092㎜の大型ソーダガラスの画像