フォトマスク
Photo Mask
フォトマスクとは
フォトマスクはフォトリソグラフィ用の原版やスクリーンマスクの原版としても使用されています。
有機EL・タッチパネル・液晶パネルなどの「ディスプレイ」、通信分野などの「各種電子部品」、多層基板やFPCなどの 「各種基板」、装置校正用のキャリブレーションマスクなど超高精度、超高精細な要求に対応するため、当社は最新鋭の描画装置や自動プロセスの導入、さらに外観検査装置・測定装置を充実させ徹底した管理を心がけております。
最大1400×1500 (mm) の大型サイズを得意とし、多様化する社会に最先端のモノづくりでお応えします。
フォトマスクの製品規格、特徴
クロムマスク
解像性が高く最小線幅1.0µm対応可能。多くのフォトリソグラフィ用原版にご使用いただいています。
フィルムマスク
一般的にご使用いただいているマスクで、安価・短納期対応。
| クロムマスク | フィルムマスク | |
|---|---|---|
| マスク種類 | クロムマスク | フィルムマスク |
| 材料 | ソーダライムガラス 合成石英 |
ポリエステル |
| 基板サイズ | ～1400×1500(mm) | ～711.2×812.8(mm) 28×32(inch) |
| 描画サイズ | 1350×1450(mm) | 600×700(mm) |
| 最小線幅 | 1.0μm | 30μm |
| 線幅精度 | ±0.3μm～ | ±3μm～ |
クロムマスクの製造工程
-
STEP 01CADデータ作成
熟練のオペレーターが対応します。
-
STEP 02マスク描画
データを元に、
描画装置でパターンを露光します。 -
STEP 03現像・エッチング
露光されたレジストを除去します。
レジストが除去された部分の
クロム層を除去します。 -
STEP 04仕上げ・洗浄
洗浄を行います。
-
STEP 05検査
大型マスクを超高精度で
全面測定可能
データ比較、ハイスピード検査 -
STEP 06検品・梱包
